チタンターゲット

純度
純度はターゲットの主要なパフォーマンスインジケーターの1つです。ターゲットの純度はフィルムのパフォーマンスに大きな影響を与えているため、実際の用途では、ターゲットの純度要件は同じ.ではなく、たとえばマイクロエレクトロニクス業界の急速な発達であり、シリコンチップサイズは6 "から縮小されています。 0 . 5umから0 . 25um、0.18um、さらには0.13um、および以前の99.995％のターゲット純度は、0.8um系統の純度の純度を満たすことができます。
不純物の内容
標的固形物と酸素の不純物は、毛穴の酸素と水蒸気の蒸気が堆積膜の主な汚染源です{.さまざまな目的のターゲットは、異なる目的で異なる要件を持っています.。
密度
ターゲットの固体の多孔度を低減し、スパッタされたフィルムの性能を向上させるために、ターゲットは通常、高密度.を持つために必要です.ターゲットの密度は、スパッタリング速度に影響するだけでなく、フィルムの電気的および光学的特性にも影響します.}標的材料の密度の向上の密度の向上の密度の向上. . .ターゲットのうち、スパッタリング中の熱応力にターゲットに耐えることができる.密度は、ターゲットマテリアル{.の主要なパフォーマンスインデックスの1つでもあります。